4.7
Història 
Agenda 
Inici 
Detalls del llibre
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
- Autors Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Tien-Chien Jen
- ISBN13 9781032386737
- ISBN10 1032386738
- Pàgines 354
- Any Edició 2025
- Fecha de publicación 06/05/2025
Ressenyes i valoracions
Sigues la primera persona a valorar-lo!
Has llegit Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes?
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
- De
- Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Tien-Chien Jen
- |
- ROUTLEDGE (2025)
- 9781032386737
60,61€
63,80€
-5%
Enviament Gratuït
No disponible
60,61€
63,80€
-5%
Enviament Gratuït
No disponible
Devolució gratuïta
Gràcies per comprar a llibreries reals!
Novetat 
Whatsapp
Facebook
Linkedin
X
