4.7
Història 
Agenda 
Inici 
Detalls del llibre
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
- Autors Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Tien-Chien Jen
- ISBN13 9781032386706
- ISBN10 1032386703
- Pàgines 354
- Any Edició 2023
- Fecha de publicación 01/12/2023
Ressenyes i valoracions
Sigues la primera persona a valorar-lo!
Has llegit Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes?
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
- De
- Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Tien-Chien Jen
- |
- ROUTLEDGE (2023)
- 9781032386706
205,82€
216,65€
-5%
Enviament Gratuït
No disponible
205,82€
216,65€
-5%
Enviament Gratuït
No disponible
Devolució gratuïta
Gràcies per comprar a llibreries reals!
Novetat 
Whatsapp
Facebook
Linkedin
X
